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详细介绍
| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
产品咨询 龚经理 I8721868497 VX同号
美国 Universitywafer 超薄硅片 晶圆
美国 Universitywafer 超薄硅片 1 微米 TTV,低粗糙度
我们提供大量超平双面抛光优质和测试级硅晶片,涵盖各种直径、厚度、方向和电阻率。我们的总厚度变化库存中只有 1 微米的 TTV。
为了增加硅晶片的平整度,就是要对晶片的背面进行抛光。双面抛光有助于降低硅晶片表面的粗糙度。在制造需要超平面和低粗糙度规格的 MEMS 器件时,这是必须的。
标准硅片对于许多应用来说太厚太笨重,这可能会导致尺寸、重量和性能方面的问题。
解决方案:我们的超薄硅片非常适合传统硅片无法满足的广泛应用。我们的薄硅片厚度从 5 微米到 100 微米不等,直径从 5 毫米到 6 英寸,是真正的镜面 DSP,表面平整度好,无雾,无空隙,具有低表面粗糙度 (RMS)(典型 1-2nm)和超平 TTV(通常小于 +/-1μm)。
100um+/-10um 6“ 薄硅,SSP,最少订购 5 个晶圆。
100um+/-5um 6“ 薄硅,DSP,最少订购 5 个晶圆。
100um+/-1um 6“ 薄硅,DSP,最少订购 10 个晶圆。
25um+/-1um 6“ 薄硅,DSP,最少订购 5 个晶圆。

微机电系统
CMOS
记忆
图像传感器
Light Emitting Diode-发光二极管
中介层
射频 (RF) 设备
MEMS 器件用于各种行业,但它们的制造既精细又耗时。
制造 MEMS 器件的最常见方法是使用硅晶片作为衬底。然而,这些晶片非常薄,很容易损坏。
我们的硅晶片比人的头发还细,可用于制造 MEMS 器件,而不会损坏基板。这将节省您的时间和金钱,同时确保您的设备采优质的材料制成。
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