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美国 AP Tech 溅射 离子源阴极 真空

简要描述:美国 AP Tech 溅射 离子源阴极 真空 Ion Sources
唐:I582I984229

  • 产品型号:Ion Sources
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-11-26
  • 访  问  量:158
产品分类PRODUCT

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美国 AP Tech 溅射 离子源阴极 真空 Ion Sources

美国 AP Tech 溅射 离子源阴极 真空

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APT生产镓液态金属离子源(Ga+LMIS)。由于其高亮度、长寿命、可靠性和发射稳定性,Ga+LMIS是聚焦离子束(FIB)系统中使用的行业标准离子源。APT既可以提供单同位素来源,也可以提供双同位素来源


AP Tech APT 生产镓液态金属离子源 (Ga LMIS) CeBix® Cold Field Emitters (CFE) Ion Sources Thermionic Emitters (TE) Zirconiated Tungsten (ZrOW) Thermal Field Emitters (TFE) 六硼化铈 (CeBix®) 的 Sl.均 LaB6 六硼化镧 (LaB6) 冷场发射器 (CFE) 冷阴极 提高空间分辨率 热离子发射器 (TE) 热离子发射阴极 电子源 离子源 离子源阴极 稳定发射和长寿命的电子束应用 美国 AP TECH 肖特基源 适用于需要高亮度 锆化钨(ZrOW) 锆钨 (ZrOW) 热场发射器 (TFE) 阴极

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