咨询热线

13916854983

当前位置:首页  >  产品展示  >  仪器仪表  >  离子源  >  NGI3000美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源

美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源

简要描述:美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源:NGI3000
设计用于通过离子溅射清洁表面,光束能量高达3 keV,典型离子电流高达30μA。

  • 产品型号:NGI3000
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-08-17
  • 访  问  量:344

详细介绍

品牌其他品牌货号/
规格常规供货周期一个月
主要用途原子/分子分离装置

美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源:NGI3000


图片1.png


LK-Technologies强大,流行的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面,光束能量高达3 keV,典型离子电流高达30μA。该喷枪采用了一种新颖的气体喷射系统,该系统允许在典型的1×10 -6托的腔室压力下进行溅射。


离子源(英文名称:Ion source)是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的部件。


products-ngi3000-b.jpg


气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞,带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子,并被引出成束。根据不同的使用条件和用途,已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源。高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的,也有广泛的用途。新型重离子源的出现,使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下,基于气体放电过程的各种离子源,都能提供一定的负离子束流。


离子源是一门具有广泛应用领域的学科,在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中,离子源都是十分重要的设备。


图片1.png


美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源


气体注入系统避免了昂贵的差动泵送设备


低室压下的惰性气体溅射

宽离子束确保均匀溅射

与普通溅射清洁和ISS应用兼容

连续可调谐的电压从200 V到3 kV

带USB或以太网接口的数字控制电子设备



产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7